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orc半導(dǎo)體用露光裝置PPS-8200/8300的用途和特長是什么

更新時(shí)間:2023-08-21      瀏覽次數(shù):790

用途:

支持多種應(yīng)用程序


支持WL-CSP、IGBT生產創效、CIS等的光刻6/8/12英寸優化上下。

特長:

  1. 寬帶曝光(與配方聯(lián)動(dòng)的自動(dòng)切換ghi線gh線,i線)生產體系。

  2. 搭載可變NA功能(0.16和0.1的可變)。

  3. 最多8個(gè)字段的條形圖設(shè)計(jì)格式能力和水平。

  4. 由抗蝕氣體和周邊環(huán)境化學(xué)保護(hù)的光學(xué)系統(tǒng)異常狀況。

    規(guī)格:


    型式PPS-8200/8300
    ウェーハサイズ6/8/12インチ
    解像力2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚)
    NA(開口數(shù))0.16協調機製、0.1可変
    縮小比1:1
    Fieldサイズ52mm × 33mm
    露光波長ghi-Line gh-line i-line(レシピ連動(dòng))
    レチクルサイズ6inch
    重ね合せ精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
    裝置サイズ/重量(W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg
    主要オプションバックサイドアライメントシステム
    ウェーハ周辺露光システム
    ウェーハ周辺非露光システム
    薄ウェーハ搬送システム
    GEM通信対応
    インライン対応


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