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產(chǎn)品分類
更新時間:2025-09-26
瀏覽次數(shù):152SONOSYS 是全的球的領的先的兆聲波技術供應商之一,尤其在半導體、微電子和精密光學等高的端制造領域享有盛譽更默契了。其產(chǎn)品以高效至關重要、均勻和低損傷的清洗效果而著稱充分。
公司全稱: SONOSYS GmbH
所在地: 德國斯圖加特附近的韋爾貝格體製,地處德國著名的精密工程和工業(yè)技術核心區(qū)效率。
核心技術: 專注于研發(fā)和生產(chǎn)基于兆聲波技術的精密清洗系統(tǒng)規模。
市場定位: 面向對清洗工藝要求極嚴苛的高科技行業(yè),提供定制化的高的端清洗解決方案講道理。
要理解SONOSYS的優(yōu)勢,首先要明白兆聲波清洗與普通超聲波清洗的區(qū)別:
| 特性 | 普通超聲波清洗 | 兆聲波清洗 |
|---|---|---|
| 頻率范圍 | 通常 20 kHz - 80 kHz | 通常 800 kHz - 3 MHz(兆赫茲級別) |
| 物理效應 | 主要依靠空化效應(氣泡在液體中劇烈內(nèi)爆產(chǎn)生沖擊力)更多的合作機會。 | 減弱空化效應事關全面,增強聲流效應責任製。產(chǎn)生非常微小、均勻且密集的能量場。 |
| 清洗特性 | 清洗力度大持續創新,但方向性不強重要意義,可能產(chǎn)生“陰影區(qū)"技術交流,對精密部件有潛在損傷風險便利性。 | 清洗力柔和、高度均勻聽得懂,能穿透微結構應用優勢,無方向性限制,幾乎無損傷便利性。 |
| 適用對象 | 常規(guī)五金件全面展示、機械零件等。 | 晶圓深刻認識、芯片核心技術、微機電系統(tǒng)應用提升、光學鏡頭、納米材料等超精密部件創造性。 |
SONOSYS兆聲波清洗的核心優(yōu)勢:
極的高的清洗均勻性: 兆聲波能在整個清洗槽內(nèi)產(chǎn)生均勻的能量場發展的關鍵,確保每個部件,尤其是大面積如晶圓性能,表面的每個點都受到一致的清洗作用多種方式,避免了清洗不均的問題。
無損清洗: 由于能量柔和且空化效應弱技術創新,SONOSYS的清洗機非常適合清洗帶有微細結構深入交流研討、脆弱線路或敏感涂層的部件,不會造成物理損傷廣泛應用。
卓的越的顆粒去除能力: 對于亞微米甚至納米級別的微小顆粒污染物關註度,兆聲波的“聲流"效應能有效地將其從表面“剝離",這是普通超聲波難以實現(xiàn)的哪些領域。
高效且節(jié)省化學品: 強大的物理清洗能力意味著可以減少化學清洗劑的使用量和使用時間敢於挑戰,更加環(huán)保和經(jīng)濟。
SONOSYS提供從標準模塊到完的全定制化的自動化系統(tǒng)提供了遵循。
兆聲波換能器模塊: 這是SONOSYS的核心技術部件。他們生產(chǎn)各種形狀和尺寸的兆聲波 transducer大型,可以集成到客戶現(xiàn)有的清洗槽或設備中服務效率。
臺式/實驗室級清洗機: 用于研發(fā)、小批量生產(chǎn)或工藝驗證重要意義。例如 MST系列主要抓手,結構緊湊,適合實驗室環(huán)境對單片晶圓或小型精密部件進行清洗構建。
在線式/全自動清洗系統(tǒng): 集成到自動化生產(chǎn)線中,用于大規(guī)模制造服務延伸。通常配備機械手共創輝煌、化學品管理系統(tǒng)、干燥單元等進一步,實現(xiàn)全自動操作大部分。例如用于半導體前道制程的晶圓清洗站。
半導體制造:
晶圓清洗: 在光刻實際需求、刻蝕解決方案、沉積等工藝前后,去除硅片表面的顆粒善謀新篇、有機物和金屬污染物增產。
光掩膜版清洗: 清潔極其昂貴且精密的掩膜版提供堅實支撐,確保圖形轉移的準確性。
CMP后清洗: 清除化學機械拋光后殘留的研磨顆粒和漿料高產。
微機電系統(tǒng):
清洗具有復雜三維微結構的MEMS器件信息化技術,去除在刻蝕和釋放步驟中產(chǎn)生的殘留物,而不損壞脆弱的懸臂梁和結構良好。
精密光學與光電:
清洗激光鏡片逐步顯現、光學傳感器、相機模組等引領,確保極的高的潔凈度自動化裝置,避免成像瑕疵。
先進封裝:
在晶圓級封裝應用前景、3D-IC等先進封裝工藝中有很大提升空間,清洗晶圓和芯片,為鍵合等步驟做準備預下達。
生命科學:
清洗微流控芯片的有效手段、生物傳感器等醫(yī)療器械和實驗器件。
德國的SONOSYS兆聲波清洗機代表了精密清洗技術的頂尖水平關鍵技術。其核心競爭力在于:
技術專精: 數(shù)十年專注于兆聲波技術,擁有深厚的技術積累和專的利深入。
質量可靠: 德國制造技術研究,秉承了德國工業(yè)對精度、可靠性和耐用性的極的致追求開展研究。
解決方案導向: 能夠根據(jù)客戶的具體工藝需求(如工件類型姿勢、污染物、產(chǎn)能要求)提供高度定制化的解決方案首要任務。
選擇SONOSYS的典型場景是: 當您的清洗對象非常精密綠色化、昂貴(如晶圓、芯片)發展,且對清洗后的表面質量保持穩定、顆粒控制和無損傷有極的高要求時面向,SONOSYS的設備往往是首的選之一支撐作用。